多弧離子真空鍍膜機的電弧蒸發(fā)源原理是通過一個冷陰極自持電弧放電，是一種場致發(fā)射。蒸發(fā)源的典型的基本配置為：受鍍基材與陰極相接，陽極接真空室，待真空室抽到到高些的真空狀態(tài)、觸發(fā)電極啟動器接觸打開，形成一個穩(wěn)定的電弧放電于陽極和陰極之間。而在陰極的表面覆蓋有很多快速移動的陰極斑，斑直徑在1μm到兩微米之間，還有直徑約10μm的光斑，有每秒移動幾十米的速度，電流之間密度為10 A/cm-10 A/cm，極間電壓也降低到20V-40V之間。所謂多弧離子真空鍍膜機就是用多個電弧蒸發(fā)源為核心的一種離子鍍膜設(shè)備，通常又叫多弧鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等。相較于其他鍍膜工藝，它具備的特點有：機械整體簡單、設(shè)備生產(chǎn)效率高、工作周期短、適合大批量的工業(yè)化生產(chǎn)。較大的鍍膜空間。 電弧蒸發(fā)源為固態(tài)，可靈活放置，所以工件在裝卡更換時更加簡單，無需附加加熱器使用。

相較于傳統(tǒng)的蒸發(fā)源，多弧離子鍍膜機的電弧蒸發(fā)源的特點明顯：鍍膜膜層致密度高，膜層壽命長、強度高；作為固體型的電弧蒸發(fā)源，可改變其形狀、大小及位置。

多弧離子真空鍍膜機廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層，高爾夫球具、鐘表、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領(lǐng)域，深受人們喜歡和市場歡迎。多弧離子真空鍍膜機的核心技術(shù)是它的電弧蒸發(fā)源，多弧離子鍍膜機的蒸發(fā)源是一種比較特殊的冷陰極電弧放電的自蒸發(fā)、自電離式的一種固體型蒸發(fā)源。多弧離子真空鍍膜機是一種高效、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點。